Получение пленок оксида кремния методом импульсного магнетронного осаждения с горячей мишенью в реакционной среде

В. Лисенков; Лисенков В. Ю.; М. Харьков; Харьков М. М.; Д. Колодко; Колодко Д. В.; А. Тумаркин; Тумаркин А. В.; А. Казиев; Казиев А. В.

doi:10.31857/S0033849423070070

Получение пленок оксида кремния методом импульсного магнетронного осаждения с горячей мишенью в реакционной среде

Authors: Лисенков В.¹, Харьков М.¹, Колодко Д.¹^,2^,3, Тумаркин А.¹, Казиев А.¹
Affiliations:
1. Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
2. Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
3. Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
Issue: Vol 68, No 11 (2023)
Pages: 1117-1121
Section: НАНОЭЛЕКТРОНИКА
URL: https://rjsvd.com/0033-8494/article/view/650749
DOI: https://doi.org/10.31857/S0033849423070070
EDN: https://elibrary.ru/WPCXHX
ID: 650749

Cite item

Full Text

Open Access
Restricted Access

Access granted
Restricted Access

Subscription Access

Abstract

Исследованы режимы существования импульсного магнетронного разряда с горячей теплоизолированной кремниевой мишенью при работе в газовой смеси, содержащей кислород (Ar + O₂). Рассмотрен диапазон средней плотности мощности на мишени 60…120 Вт/см² при длительности импульсов 100…300 мкс и частоте повторения 0.5…2 кГц. Построены карты стабильных режимов работы распылительной системы. Получены и продиагностированы покрытия Si_xO_y на подложках из монокристаллического кремния при различных значениях доли кислорода в газовом потоке и различных параметрах импульсного питания магнетрона.

References

Strijckmans K., Schelfhout R., Depla D. // J. Appl. Phys. 2018. V. 124. № 24. P. 241101.
Shapovalov V.I. // Materials (Basel). 2023. V. 16. № 8. P. 3258.
Graillot-Vuillecot R., Thomann A.-L., Lecas T. et al. // Vacuum. 2022. V. 197. P. 110813.
Chodun R., Dypa M., Wicher B. et al. // Appl. Surf. Sci. 2022. V. 574. P. 151597.
Reed M.L., Fedder G.K. Handbook of Sensors and Actuators. N.Y.: Springer, 1998.
Pierce A.L., Sommakia S., Rickus J.L., Otto K.J. // J. Neurosci. Methods. 2009. V. 180. № 1. P. 106.
Cui L., Ranade A.N., Matos M.A. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2012. V. 4. № 12. P. 6587.
Prevo B.G., Hwang Y., Velev O.D. // Chem. Mater. 2005. V. 17. № 14. P. 3642.
Long L., Yang Y., Wang L. // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 2019. V. 197. P. 19.
Steenbeck K. // Thin Solid Films. 1985. V. 123. № 3. P. 239.
Chau R.Y., Ho W-S, Wolfe J.C., Licon D.L. et al. // Thin Solid Films. 1996. V. 287. № 1–2. P. 57.
Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.
Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.
Kaziev A.V., Kolodko D.V., Sergeev N.S. // Plasma Sources Sci. Technol. 2021. V. 30. № 5. P. 055002.