Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трифторметана с кислородом и аргоном

С. Пивоваренок; Пивоваренок С. А.; Д. Мурин; Мурин Д. Б.; А. Граждян; Граждян А. Ю.

doi:10.31857/S0023119323020092

Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трифторметана с кислородом и аргоном

Authors: Пивоваренок С.¹, Мурин Д.¹, Граждян А.¹
Affiliations:
1. Ивановский государственный химико-технологический университет
Issue: Vol 57, No 2 (2023)
Pages: 156-160
Section: PLASMA CHEMISTRY
URL: https://rjsvd.com/0023-1193/article/view/661522
DOI: https://doi.org/10.31857/S0023119323020092
EDN: https://elibrary.ru/NHBCCL
ID: 661522

Cite item

Full Text

Open Access
Restricted Access

Access granted
Restricted Access

Subscription or Fee Access

Abstract
About the authors
References
Supplementary files
Statistics

Abstract

Проведен анализ влияния состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трифторметана с кислородом и аргоном в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Установлено, что приведенная напряженность электрического поля нелинейно изменяется с увеличением доли второго газа в смеси. Показано, что при доле кислорода 0.5 в смеси приведенная интенсивность излучения атомарного фтора проходит через максимум, в смеси с аргоном – возрастает и в диапазоне 0.2–0.8 практически не изменяется. В смеси с кислородом наблюдается резкий спад приведенной интенсивности излучения CF₂ в диапазоне 0.2–0.5, а в смеси с аргоном в диапазоне 0.2–0.5 практически не изменяется.

Keywords

плазма, электрофизические параметры, спектры, трифторметан, кислород, аргон

References

Advanced plasma processing technology. New York: John Wiley & Sons Inc. 2008. 479 p.
Nojiri K. Dry etching technology for semiconductors. Tokyo: Springer Internat. Publ. 2015. 116 p.
Pivovarenok S.A., Bakshina P.I. // High Energy Chemistry. 2021. V. 55. № 3. P. 233.
Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И. и др. // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 4. С. 29.
Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И. и др. // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 8. С. 41.
Дунаев А.В., Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А. // Физика и техника полупроводников. 2016. Т. 50. № 2. С. 167.
Pivovarenok S.A., Dunaev A.V., Murin D.B. et al. // High Temperature. 2011. V. 49. № 4. P. 491.
Пивоваренок С.А., Королькова К.А. // Сборник тезисов докладов на III Всероссийской молодежной конференции “Успехи химической физики”. М.: Издательство “Граница”. 2016. С. 124.
Пивоваренок С.А. // Микроэлектроника. 2017. Т. 46. № 3. С. 231.
Пивоваренок С.А. // Микроэлектроника. 2019. Т. 48. № 4. С. 279.
Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. 2-е изд.; перераб. и доп. М.: Энергоатомиздат, 1991. 720 с.
Пивоваренок С.А., Дунаев А.В., Мурин Д.Б. и др. // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2011. Т. 54. № 9. С. 48.
Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.К. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука. 1981. 143 с.
Пивоваренок С.А., Мурин Д.Б., Ситанов Д.В. // Микроэлектроника. 2021. Т. 50. № 1. С. 43.
Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Ed. 4th. New York: John Wiley & Sons, Inc. 1976. 407 p.
Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат., 1966. 899 с.
Pivovarenok S.A., Murin D.B. // High Energy Chemistry. 2022. V. 56. № 3. P. 197.
Proshina O., Rakhimova T.V., Zotovich A. et al. // Plasma Sources Sci. Technol. 2017. V. 26. P. 075005.
Sugawara H., Ishihara Y., Saito R. et al. // Proc. of 27th ICPIG. (Eindhoven, The Netherlands), 2005. P. 18.
Bose D., Rao M.V.V.S., Govindan T.R. et al. // Plasma Sources Sci. Technol. 2003. V. 12. P. 225.
Yamamori Y., Takahashi K., Inomata T. // J. Phys. Chem. A. 1999. V. 103. P. 8803.
Kim Y., Kang S., Ham Y.-H. et al. // J. Vac. Sci. Technol. A. 2012. V. 30. № 3. P. 031601-1.
Kato S., Okuda I., Takahashi E. et al. // Plasma and Fusion Research. 2008. V. 3. P. 038-1.