Исследование конверсии малых примесей этанола в аргоне в тлеющем разряде при атмосферном давлении

А. Сайфутдинов; Сайфутдинов А. И.; Н. Германов; Германов Н. П.; А. Сайфутдинова; Сайфутдинова А. А.; А. Сорокина; Сорокина А. Р.

doi:10.31857/S0023119323010114

Исследование конверсии малых примесей этанола в аргоне в тлеющем разряде при атмосферном давлении

Authors: Сайфутдинов А.¹, Германов Н.¹, Сайфутдинова А.¹, Сорокина А.¹
Affiliations:
1. Казанский национальный исследовательский технический университет им. А.Н. Туполева-КАИ
Issue: Vol 57, No 1 (2023)
Pages: 55-72
Section: PLASMA CHEMISTRY
URL: https://rjsvd.com/0023-1193/article/view/661532
DOI: https://doi.org/10.31857/S0023119323010114
EDN: https://elibrary.ru/DDNJHO
ID: 661532

Cite item

Full Text

Open Access
Restricted Access

Access granted
Restricted Access

Subscription or Fee Access

Abstract
About the authors
References
Supplementary files
Statistics

Abstract

В работе проведены исследования плазмохимической конверсии малых примесей этанола в аргоне в неравновесном тлеющем разряде атмосферного давления. Результаты моделирования показали, что доминирующими частицами в результате конверсии этанола являются СO, H₂ и H, CH₄, C₃H₃, С₂H₂, C₂H₄, C₂H_5. Кроме того, показано формирование молекулярных частиц углерода, и значительные значения концентраций радикалов CH₃ и CH₂, которые являются прекурсорами наноалмазов.

Keywords

плазмохимический синтез, углерод, радикалы, тлеющий разряд, неравновесная плазма, атмосферное давление

References

Ariyarathna I.R., Rajakaruna R.M.P.I., Karunaratne D. Nedra // Food Control. 2017. V. 77. P. 251–259.
Dastjerd R., Montazer M. // Colloids Surf. B. 2010. V. 79. P. 5–18.
Chu H., Wei L., Cui R., Wang J., Li Y. // Coord. Chem. Rev. 2010. V. 254. P. 1117–1134.
Lohse S.E. and Murphy C.J. // J. Am. Chem. Soc. 2012. V. 134. P. 15607–15620.
Kim T. and Hyeon T. // Nanotechnology. 2014. V. 25. P. 012001–012015.
Porto C.Lo., Palumbo F., Palazzoa G., and Favia P. // Polym. Chem. 2017. V. 8. P. 1746–1749.
Heyse P., Hoeck A.V., Roeffaers M.B.J., et al. // Plasma Process. Polym. 2011. V. 8. P. 965–974 (2011).
Koga K., Dong X., Iwashita S., Czarnetzki U., Shiratani M. // J. Phys Conf. Ser. 2014. V. 518. P. 012020–012026.
Kortshagen U., Sankaran R.M., Pereira R., Girshick S., Wu J., and Aydil E. // Chem. Rev. 2016. V. 116. P. 11061–11127.
Vekselman V., Raitses Y., Shneider M.N. Growth of nanoparticles in dynamic plasma PHYSICAL REVIEW E. 2019. V. 99. № 063205. P. 1–5.
Timerkaev B.A., Kaleeva A.A., Timerkaeva D.B., Saifutdinov A.I. // High Energy Chemistry. 2019. V. 53. № 5. P. 390–395.
Timerkaev B.A., Shakirov B.R., Kaleeva A.A., Saifutdinov A.I. // High Energy Chemistry. 2021. V. 55. № 5. P. 402–406
Lebedev Y.A., Averin K.A., Borisov R.S. et al. // High Energy Chem. 2018. V. 52. № 324. P. 324–329.
Averin K.A., Lebedev Yu.A., Tatarinov A.V. // High Energy Chem. 2019. V. 53. № 4. P. 331–335.
Saifutdinova A.A., Sofronitskiy A.O., Timerkaev B.A., Saifutdinov A.I. // Russian Physics Journal. 2020. V. 62. № 11. P. 2132–2136.
Kumar A., Lin P.A., Xue A., Hao B., Yap Y.Kh., Sankaran R. // Nature Communications. 2013. V. 4. № 2618. P. 1–8.
Dresselhaus M.S., Dresselhaus G., Saito R., and Jorio A. // Phys. Rep. 409, 47–49 (2005).
Peña-Álvarez M., Corro E., Langua F., Baonza V.G., Taravillo M. // RSC Adv. 2016. V. 6. P. 49543–49550.
Ferrari A.C. and Robertson J. // Philos. Trans. R. Soc. Lond. A. 2004. V. 362. P. 2477–2512.
Saito Y., Okuda M., and Koyama T. // Surf. Rev. Lett. 1996. V. 3. P. 863–867.
Williams K., Tachibana M., Allen J., et al. // Chem. Phys. Lett. 1999. V. 310. P. 31–37.
Farhat S., Chapelle M. L., Loiseau A., et al. // J. Chem. Phys. 2001. V. 115. P. 6752–6759.
Grebenyukov V.V., Obraztsova E.D., Pozharov A.S., Arutyunyan N.R., Romeikov A.A., Kozyrev I.A. // Fullerenes Nanotubes Carbon Nanostruct. 2008. V. 16. P. 330–334.
Das R., Shahnavaz Z., Md Eaqub Ali, Moinul Islam M., Bee Abd Hamid S. // Nanoscale Res. Lett. 2016. V. 11. P. 510–533.
Райзер Ю.П. Физика газового разряда, 3-е изд., перераб. и доп., Долгопрудный: Интеллект, 2009. 734 с.
Thorsteinsson E.G., Gudmundsson J.T. // J. Phys. D A-ppl. Phys. 2010. V. 43 № 115201. P. 1–12.
Tsyganov D., Bundaleska N., Tatarova E., Dias A., Henriques J., Rego A., Ferraria A., Abrashev M.V., Dias F.M., Luhrs C.C., Phillips J. // Plasma Sources Science and Technology. 2015. V. 25. № 015013. P. 1–22.
Marinov N.M. // Int. J. Chem. Kinet. 1999. V. 31. P. 183–220.
Napalkov O.G., Saifutdinov A.I., Saifutdinova A.A. et al. // High Energy Chem. 2021. V. 55. P. 525–530.
Levko D.S., Tsymbalyuk A.N., Shchedrin A.I. // Plasma Phys. Rep. 2012. V. 38. P. 913–921.